1440nm 및 1320nm를 포함하는 순차적 이중 파장 방출의 기술적 목표는 단일 동기화된 치료 펄스 내에서 서로 다른 깊이를 타겟팅하여 다층 피부 재생을 달성하는 것입니다. 이들 고유한 파장을 정밀한 3-5밀리초 간격으로 조사함으로써, 시스템은 효과에 필요한 총 에너지 밀도를 실질적으로 증가시키지 않으면서 표면 광손상과 깊은 구조적 노화를 동시에 치료합니다.
이 기술의 핵심 장점은 열 과부하 없는 시너지 효과입니다. 이를 통해 시술자는 한 세션에서 표면 질감과 깊은 구조적 이완을 모두 개선할 수 있으며, 열 축적을 관리하여 조직 스트레스를 최소화하면서 결과를 극대화할 수 있습니다.
순차적 타겟팅의 메커니즘
정밀한 깊이 맞춤 설정
이 이중 파장 접근 방식의 근본적인 목표는 서로 다른 피부층의 치료를 분리하는 것입니다.
1440nm 파장은 표면 조직을 타겟팅하는 데 사용됩니다. 이의 기술적 목표는 특히 광손상 및 표면 불규칙성과 같은 상층부의 결함을 치료하는 것입니다.
구조적 노화 치료
반대로, 1320nm 파장은 진피 깊숙이 침투하도록 설계되었습니다.
주요 기능은 깊은 구조적 노화를 타겟팅하여 피부의 근본적인 요소를 작용시켜 이완과 내부 구조를 개선하는 것입니다.
3-5밀리초 간격
이 방법의 기술적 성공은 펄스 간 타이밍에 크게 좌우됩니다.
시스템은 3-5밀리초 지연으로 두 파장을 순차적으로 조사합니다. 이 특정 타이밍은 각 파장의 고유한 열 효과가 손상을 일으킬 수 있는 불분명한 열 융합 없이 시너지 효과를 발휘하도록 합니다.
절충점 이해
열 축적 관리
레이저 치료의 일반적인 과제는 조직을 태우지 않고 효과를 발휘할 만큼 충분한 에너지를 전달하는 것입니다.
순차적 방출은 열 축적을 관리하여 이를 해결합니다. 위험한 총 에너지 밀도 증가 없이 포괄적인 치료 효과를 제공합니다.
효능 대 에너지 밀도
일반적으로 깊은 결과와 표면 결과를 달성하려면 두 번의 별도 고에너지 패스 또는 단일의 매우 공격적인 펄스가 필요합니다.
이 기술은 임상 효능을 크게 향상시킵니다. 그러나 이는 에너지 프로파일을 두 가지 깊이에 분산시켜 고밀도 단일 파장 치료와 관련된 "벌크 가열" 위험을 방지함으로써 이를 달성합니다.
임상 유용성 평가
주요 초점이 표면 교정인 경우: 1440nm 구성 요소는 눈에 보이는 광손상을 치료하는 활성 성분이지만, 1320nm의 추가는 전반적인 미적 결과를 개선할 수 있는 구조적 지지를 제공합니다.
주요 초점이 구조적 타이트닝인 경우: 1320nm 구성 요소는 깊은 노화를 치료하지만, 순차적인 1440nm 펄스는 표면 질감이 개선된 내부 구조와 일치하도록 보장합니다.
주요 초점이 효율성인 경우: 이 접근 방식은 "투인원" 솔루션을 제공하여 총 치료 시간을 단축하면서 열 누적과 관련된 안전 위험을 완화합니다.
깊이 타겟팅을 에너지 밀도에서 분리함으로써, 순차적 이중 파장 방출은 완전한 피부 재생을 위한 정교한 방법을 제공합니다.
요약표:
| 특징 | 1440nm 파장 | 1320nm 파장 |
|---|---|---|
| 타겟 깊이 | 표면 (상층 조직) | 깊은 (진피층) |
| 주요 목표 | 광손상 및 표면 질감 치료 | 구조적 노화 및 이완 치료 |
| 기술적 목표 | 표면 교정 | 구조적 타이트닝 |
| 시너지 효과 | 3-5ms 간격으로 열 과부하 방지 | 단일 펄스로 이중 깊이 치료 |
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참고문헌
- А. А. Кубанова, Natalia Mikhailova. Skin rejuvenation with the use of fractional photothermolysis(MultiPlex technology) in a combination with the CAP system. DOI: 10.25208/vdv998
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