지식 낮은 에너지 레이저 매개변수에서 펄스 스태킹 기술은 어떤 역할을 합니까? 깊이와 치료 안전성 극대화
작성자 아바타

기술팀 · Belislaser

업데이트됨 2 days ago

낮은 에너지 레이저 매개변수에서 펄스 스태킹 기술은 어떤 역할을 합니까? 깊이와 치료 안전성 극대화


펄스 스태킹 기술은 단일 해부학적 위치에 여러 개의 연속적인 저에너지 펄스를 적용하여 레이저 에너지 전달을 근본적으로 변화시킵니다. 피부를 관통하기 위해 단일 고강도 버스트에 의존하는 대신, 이 구성은 열 에너지가 점진적으로 축적되도록 하여 상처의 표면 직경을 늘리지 않고 진피 깊숙이 박리 및 응고 효과를 유도합니다.

핵심 요점 저에너지 매개변수를 사용한 펄스 스태킹은 치료 깊이를 스팟 크기와 분리하는 정교한 방법을 제공합니다. 이는 단일 고에너지 펄스와 관련된 측면 열 손상 위험을 크게 줄이면서 피부 타이트닝에 필요한 깊은 조직 수축을 달성합니다.

수직 에너지 전달의 역학

열 에너지 축적

저에너지 매개변수로 구성될 때 펄스 스태킹은 즉각적인 기화가 아닌 누적 열을 통해 피부를 치료합니다.

정확히 동일한 지점에 빠르고 연속적인 펄스를 발사함으로써 레이저는 조직 내에서 열 에너지가 축적되도록 합니다.

스팟 직경 유지

이 방법의 중요한 이점은 일관된 박리 직경을 유지하는 능력입니다.

에너지가 증가함에 따라 종종 부상 폭이 넓어지는 고에너지 단일 펄스와 달리, 펄스 스태킹은 손상 기둥을 좁게 유지합니다.

이는 치료가 표적화된 수직 조직 기둥에만 영향을 미치고 주변 영역으로 불필요하게 퍼지지 않도록 합니다.

깊은 진피 효과 달성

응고 깊이 향상

이 맥락에서 펄스 스태킹을 사용하는 주된 목표는 더 깊은 진피층에 도달하는 것입니다.

축적된 에너지는 훨씬 더 높은 에너지 설정으로 달성되는 깊이와 유사한 깊이에서 박리 및 응고를 모두 촉진합니다.

이 깊은 가열은 효과적인 피부 타이트닝에 필요한 조직 수축을 자극하는 데 필수적입니다.

측면 열 손상 감소

고에너지 단일 펄스는 종종 과도한 측면 열 손상을 유발하여 표적 영역 주변의 건강한 조직을 손상시킵니다.

펄스 스태킹은 에너지를 제어된 소량으로 전달하여 이 위험을 완화합니다.

이 접근 방식은 더 안전한 대안을 제공하여 시술자가 상부 피부층의 무결성을 손상시키거나 광범위한 표면 손상을 유발하지 않고 깊이 치료할 수 있도록 합니다.

절충점 이해

고에너지 위험 대 저에너지 제어

여기서의 절충점은 전력과 정밀도 간의 관계에 있습니다.

단일 고에너지 펄스에 의존하면 즉각적인 깊이를 보장하지만 종종 정밀도를 희생하여 더 넓고 더 손상적인 발자국을 초래합니다.

반대로, 펄스 스태킹은 열을 효과적으로 "스태킹"하기 위해 펄스 시퀀스 전체 동안 정밀한 정렬을 유지하는 기술이 필요하지만, 더 깨끗하고 안전한 수직 손상 프로파일로 사용자에게 보상합니다.

목표에 맞는 올바른 선택

프락셔널 CO2 공정에 대한 레이저 매개변수를 구성할 때 에너지 수준과 펄스 전달 간의 상호 작용을 이해하는 것이 중요합니다.

  • 안전성 극대화가 주요 초점이라면: 저에너지 펄스 스태킹을 사용하여 열 손상 직경을 제한하면서도 상당한 효과를 달성하십시오.
  • 깊은 피부 타이트닝이 주요 초점이라면: 스태킹된 펄스의 누적 효과에 의존하여 고에너지 폭발의 위험 없이 깊은 진피층에서 응고를 유도하십시오.

펄스 스태킹은 표면 안전성과 심부 조직 효능 간의 격차를 효과적으로 해소합니다.

요약 표:

기능 고에너지 단일 펄스 펄스 스태킹 (저에너지)
에너지 전달 즉각적인 고강도 버스트 누적 빠른 펄스 패킷
박리 직경 더 넓고 에너지에 따라 증가 좁고 일관됨
깊이 제어 전력 강도를 통해 달성 열 축적을 통해 달성
측면 손상 주변 부상 위험 높음 위험 크게 감소
주요 이점 더 빠른 시술 시간 향상된 안전성 및 정밀도

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참고문헌

  1. Marcos Matias Motta, Paulo Kharmandayan. Lower energy and pulse stacking. A safer alternative for skin tightening using fractional CO2 laser. DOI: 10.1590/s0102-865020160010000005

이 문서는 다음의 기술 정보도 기반으로 합니다 Belislaser 지식 베이스 .

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