지식 흉터 미세니들링 시 교차 패턴 스캐닝이 권장되는 이유는 무엇인가요? 흉터 개선 결과 최적화
작성자 아바타

기술팀 · Belislaser

업데이트됨 2 days ago

흉터 미세니들링 시 교차 패턴 스캐닝이 권장되는 이유는 무엇인가요? 흉터 개선 결과 최적화


교차 패턴 스캐닝이 권장되는 주된 이유는 시술 중 흉터 조직에 대한 포괄적이고 고밀도의 커버리지를 보장하기 위해서입니다. 장치를 다차원 그리드(수직 및 수평 통과)로 작동시킴으로써, 시술자는 치료되지 않은 부분을 방지하고 미세 채널을 더 균일하게 생성하여 저항성 흉터 조직을 분해하는 데 필수적입니다.

다차원적인 천공 접근 방식을 활용하면 콜라겐 유도 효과가 목표 조직 전체에 고르게 분포되어 단방향 통과보다 일관된 흉터 개선 효과를 얻을 수 있습니다.

조직 커버리지 극대화

치료되지 않은 부분 제거

미세니들링 장치를 단일 방향으로 움직일 때, 바늘 경로 사이의 미세한 피부 스트립은 종종 untouched 상태로 남습니다.

교차 패턴은 해당 부위를 수직으로 통과한 다음 수평으로 통과하는 것을 포함합니다. 이 "그리드" 접근 방식은 이러한 간격을 효과적으로 채워 흉터 조직의 어떤 부분도 치료에서 벗어나지 않도록 합니다.

고밀도 천공 달성

흉터 조직은 종종 건강한 피부보다 더 밀도가 높고 저항성이 있습니다.

필요한 리모델링 반응을 유발하려면 조직에 더 높은 밀도의 미세 손상이 필요합니다. 교차 패턴은 특정 지점에 대한 통과 빈도를 자동으로 두 배로 하여 섬유성 조직을 관통하고 분해하는 데 필요한 고밀도 커버리지를 제공합니다.

치유 반응 최적화

균일한 미세 채널 생성

미세니들링의 목표는 통제된 상처 치유 반응을 유도하는 것입니다.

주요 참고 자료에 따르면 다차원적 접근 방식은 더 균일하게 미세 채널을 생성합니다. 균일한 손상은 균일한 치유로 이어져 일부 흉터 부위는 개선되지만 다른 부위는 정체되는 얼룩덜룩한 결과를 방지합니다.

콜라겐 유도 분산

흉터 개선의 궁극적인 작용 메커니즘은 콜라겐 유도입니다.

물리적 채널이 고르게 분포되도록 하면 후속 콜라겐 유도 효과도 고르게 분포되도록 보장합니다. 이러한 일관성은 흉터의 질감을 매끄럽게 하고 주변 건강한 피부와 혼합하는 데 중요합니다.

중요 고려 사항 및 절충점

과도한 외상의 위험

흉터에는 고밀도가 유익하지만, 해로운 임계값이 있습니다.

교차 패턴으로 너무 많은 통과를 수행하면 과도한 염증이나 조직의 "연화"가 발생할 수 있습니다. 전체 패턴이 완료되지 않았더라도 임상 종말점(예: 점상 출혈 또는 홍반)에 도달하면 중단하는 것이 중요합니다.

기술 정밀도

교차 패턴은 규율 있는 손 움직임을 필요로 합니다.

시술자가 교차 패턴을 만들기 위해 장치를 회전하면서 끌면 찢어짐이나 "트램 트랙" 긁힘이 발생할 수 있습니다. 표면 손상을 유발하지 않고 미세 채널의 무결성을 유지하려면 장치를 들어 올리거나 별도의 선형 경로로 이동해야 합니다.

특정 목표에 대한 적용

주요 초점이 빽빽하고 비후성 흉터를 치료하는 경우:

  • 섬유증의 천공 밀도와 기계적 분해를 최대화하기 위해 빽빽한 교차 패턴을 사용하십시오.

주요 초점이 넓고 얕은 여드름 흉터를 치료하는 경우:

  • 얇은 피부에 과도한 외상을 주지 않으면서 전체적인 피부 질감 개선을 보장하기 위해 더 넓은 교차 패턴을 사용하십시오.

스캐닝 패턴의 일관성은 예측 가능한 임상 결과를 달성하는 데 있어 가장 통제 가능한 단일 요소입니다.

요약표:

특징 단일 방향 통과 교차 패턴
조직 커버리지 부분적 (잠재적 간격) 포괄적 (치료되지 않은 영역 없음)
천공 밀도 표준 높음 (통과 빈도 두 배)
콜라겐 분포 잠재적으로 불균일 균일하고 일관됨
가장 적합 유지 관리 또는 얇은 피부 빽빽한 흉터 및 섬유성 조직
임상 결과 가변적 결과 예측 가능한 질감 개선

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참고문헌

  1. Shanza Obaid, Kanza Aftab. MICRO NEEDLING VERSUS CARBON DIOXIDE FRACTIONAL LASER IN MANAGEMENT OF ACNE SCARS. DOI: 10.51253/pafmj.v71i6.5444

이 문서는 다음의 기술 정보도 기반으로 합니다 Belislaser 지식 베이스 .

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