통합 접촉 냉각 시스템은 전기광학 시너지(ELOS) 장비의 기본적인 요구 사항으로, 안전 보호막이자 에너지 전달 메커니즘의 능동적인 구성 요소 역할을 합니다. 이 시스템은 피부를 미리 냉각하여 표피를 열 손상으로부터 보호하는 동시에, 치료 에너지가 조직 깊숙이 전달되도록 피부의 전기적 특성을 변경합니다.
핵심 요점 ELOS 기술에서 냉각은 단순히 환자의 편안함을 위한 것이 아니라 타겟팅을 위한 기능적 요구 사항입니다. 표면을 냉각함으로써 시스템은 표피 임피던스(저항)를 증가시켜 치료 전류가 표면을 우회하고 더 따뜻하고 임피던스가 낮은 진피 깊숙이 흐르도록 합니다.
에너지 유도 메커니즘
조직 임피던스 조절
ELOS에서 통합 냉각의 주요 기술적 이유는 전기 임피던스 조절입니다.
피부 표면을 미리 냉각하면 전기 저항이 크게 증가합니다. 전기 전류는 자연스럽게 저항이 가장 적은 경로를 따르기 때문에, 이 높은 표면 임피던스는 장벽 역할을 합니다.
에너지를 진피 깊숙이 전달
이 장벽 효과는 의도적이며 시술 효과에 매우 중요합니다.
냉각 시스템은 표면에서의 전류 흐름을 차단함으로써 RF(고주파) 에너지가 임피던스가 낮은 진피 깊숙이 이동하도록 효과적으로 유도합니다. 이를 통해 에너지가 표면에서 소산되는 대신 의도된 피부 아래 구조를 타겟팅하도록 합니다.
표피 보호
열 손상 방지
고성능 레이저, 특히 멜라닌을 타겟팅하는 레이저(예: 알렉산드라이트 755nm)는 피부 표면에 손상을 줄 수 있는 상당한 열을 발생시킵니다.
냉각 시스템은 에너지 펄스 직전과 직후에 표피 온도를 낮춥니다. 이는 열 축적을 방지하여 붉어짐, 물집 또는 과색소 침착의 위험을 크게 줄입니다.
더 높은 에너지 밀도 가능
안전 메커니즘은 시술 효과에 직접적인 영향을 미칩니다.
표면이 열 손상으로부터 능동적으로 보호되므로, 시술자는 더 높은 에너지 밀도를 안전하게 사용할 수 있습니다. 이를 통해 외부 피부층의 무결성을 손상시키지 않으면서 깊은 타겟에 대한 보다 공격적인 시술이 가능합니다.
운영상의 절충점 및 위험
지속적인 접촉의 필요성
이 시스템의 효과는 완벽한 물리적 접촉에 전적으로 달려 있습니다.
냉각 팁이 피부와의 접촉을 잠시라도 잃으면 표면 임피던스가 떨어지고 피부는 열 보호 기능을 잃게 됩니다. 이는 즉각적인 표면 화상이나 전기 전류의 "아크"를 유발할 수 있습니다.
과냉각 위험
열이 주요 위험이지만, 과도한 냉각 역시 자체적인 위험을 초래합니다.
부적절한 보정 또는 단일 부위에 냉각 요소를 장시간 적용하면 냉동 손상(동상) 또는 저색소 침착이 발생할 수 있습니다. 시스템은 표피를 동결시키지 않으면서 열을 억제하는 균형을 유지해야 합니다.
목표에 맞는 올바른 선택
ELOS 장비를 평가하거나 시술 프로토콜을 계획할 때, 냉각 시스템이 임상 목표와 어떻게 일치하는지 고려하십시오:
- 주요 초점이 시술 깊이라면: 표면 임피던스를 최대화하기 위해 공격적인 사전 냉각 기능을 갖춘 시스템을 찾아 진피 깊숙이 에너지를 전달하여 조직 타이트닝 또는 깊은 모낭 타겟팅을 하십시오.
- 주요 초점이 어두운 피부 타입의 안전이라면: 펄스 전, 중, 후에 지속적인 냉각을 제공하여 멜라닌 흡수를 중화하고 과색소 침착을 방지하는 시스템을 우선시하십시오.
궁극적으로 ELOS의 냉각 시스템은 액세서리가 아니라 에너지가 가장 필요한 곳에 집중시키는 중요한 "렌즈"입니다.
요약 표:
| 기능 | ELOS 기술에서의 역할 | 시술에 대한 이점 |
|---|---|---|
| 임피던스 제어 | 냉각을 통해 표면 저항 증가 | RF 에너지를 타겟 진피 깊숙이 전달 |
| 표피 차폐 | 피부 표면 온도 낮춤 | 화상, 물집, 과색소 침착 방지 |
| 에너지 최적화 | 시술 부위 안정화 | 더 높은 에너지 밀도 및 더 나은 결과 가능 |
| 열 관리 | 펄스 중 과도한 열 흡수 | 환자 편의 증진 및 다운타임 감소 |
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참고문헌
- F. Cherif, I. Zarâa. Electro-optical synergy (ELOS) technology for combined acne scars treatment – A case report. DOI: 10.1016/j.mla.2010.09.002
이 문서는 다음의 기술 정보도 기반으로 합니다 Belislaser 지식 베이스 .
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