지식 멜라즈마 치료에 저출력 모드가 필수적인 이유는 무엇인가요? Nd:YAG 레이저로 안전하게 색소 제거하기
작성자 아바타

기술팀 · Belislaser

업데이트됨 2 days ago

멜라즈마 치료에 저출력 모드가 필수적인 이유는 무엇인가요? Nd:YAG 레이저로 안전하게 색소 제거하기


저출력 모드는 세포 파괴보다 세포 보존을 우선시하기 때문에 안전한 멜라즈마 치료의 초석입니다. 광음향 효과를 활용하는 이 설정은 세포막을 파열시키거나 반동성 색소 침착을 유발하는 과도한 열을 발생시키지 않고 세포 내부의 색소 과립을 파쇄합니다.

핵심 통찰력: 저출력 모드는 세포하 선택적 광열분해 원리로 작동하여 멜라닌 세포는 그대로 둔 채 내부 멜라닌 소포만을 표적으로 합니다. 이 접근 방식은 열 외상과 염증을 피하여 공격적인 치료 후 종종 멜라즈마를 악화시키는 보상성 색소 생성을 방지합니다.

세포하 처리 메커니즘

광음향 효과

조직을 "익히는" 기존의 열 치료와 달리, 저출력 Q-스위치 Nd:YAG 레이저는 주로 음향 충격파에 의존합니다.

이 나노초 펄스는 에너지를 매우 빠르게 전달하여 상당한 열을 발생시키지 않고 멜라닌 과립을 미세 조각으로 파쇄하는 기계적 진동을 생성합니다.

세포 무결성 보존

저출력 모드의 주요 목표는 세포를 죽이는 것이 아니라 청소하는 것입니다.

이 모드는 멜라닌 세포와 각질 세포 내부의 멜라닌 소포(색소 덩어리)를 표적으로 하여 운반 세포의 구조적 무결성을 유지하면서 색소를 파괴합니다.

대사 제거

멜라닌이 미세 입자로 파쇄되면 신체의 면역 체계가 작동합니다.

대식 세포가 이러한 미세 조각을 삼키고, 시간이 지남에 따라 림프계를 통해 자연적으로 대사 및 제거됩니다.

반동성 색소 침착 예방

열 자극 방지

멜라즈마는 악명 높게 불안정하며 열로 인한 염증에 공격적으로 반응합니다.

낮은 에너지 밀도와 큰 스팟 크기를 활용하여 저출력 모드는 열 자극을 최소화하여 시술 후 색소 침착(PIH)의 위험을 크게 줄입니다.

보상 활동 중단

멜라닌 세포가 손상되거나 고열에 의해 위협받으면 방어 메커니즘으로 더 많은 색소를 생성하여 반응합니다.

저출력 처리는 "스텔스"입니다. 염증을 유발하지 않고 기존 색소를 줄여 공격적인 레이저 요법에서 흔히 볼 수 있는 색소 침착을 방지합니다.

절충점 이해하기

점진적 결과 vs. 즉각적인 결과

이 방법은 비침습적이고 세포하 방식이기 때문에 색소 제거가 즉각적이지 않습니다.

환자는 이것이 점진적인 감소 과정이며, 고에너지 침습적 방법에 비해 상당한 제거를 달성하기 위해 여러 세션이 필요할 수 있음을 이해해야 합니다.

여러 번의 패스 필요성

낮은 에너지로 효과를 얻으려면 일반적으로 여러 번의 패스 스캔이 필요합니다.

이는 주변 조직의 열 이완 시간을 초과하지 않으면서 색소를 파쇄하는 데 충분한 누적 에너지가 전달되도록 보장합니다.

목표에 맞는 올바른 선택

멜라즈마 치료 프로토콜을 설계할 때 설정이 안전 프로파일을 결정합니다.

  • 주요 초점이 안전 및 PIH 예방이라면: 광음향 효과를 활용하여 염증을 유발하지 않고 색소를 파쇄하도록 저출력 설정을 우선시하십시오.
  • 주요 초점이 깊은 피부 색소라면: 1064nm 파장을 저출력 모드에서 사용하여 표피를 그대로 유지하면서 진피를 효과적으로 침투하십시오.

멜라즈마 치료의 궁극적인 성공은 인내심의 규율에 있습니다. 열 공격으로 인한 불안정한 반동을 위험에 빠뜨리는 것보다 시간이 지남에 따라 색소를 부드럽게 파쇄하는 것이 훨씬 우수합니다.

요약표:

특징 저출력 모드 (권장) 고출력 모드 (위험)
주요 메커니즘 광음향 (음향 충격파) 광열 (열 발생)
세포 영향 세포 무결성 보존 잠재적 세포 파열
색소 표적 세포하 멜라닌 소포 공격적인 조직 손상
염증 위험 최소 (PIH 방지) 높음 (반동 유발)
치료 목표 점진적이고 안전한 제거 즉각적이지만 불안정한 결과
회복 시간 다운타임 없음 염증/색소 침착 위험

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참고문헌

  1. Adriana Solange Maddaleno, Marı́a Pilar Vinardell. Melanogenesis and Melasma Treatment. DOI: 10.3390/cosmetics8030082

이 문서는 다음의 기술 정보도 기반으로 합니다 Belislaser 지식 베이스 .

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